K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 58mm

Der K&F Concept Nano-X MRC UV Filter ist ein hochwertiger Schutzfilter, der Ihr Objektiv schützt und die Bildschärfe verbessert. Mit extrem geringer Reflexion und fortschrittlicher Nano-X Multi-Resistant Coating sorgt dieser Filter für überragende Lichtdurchlässigkeit und minimale Blendeffekte. Ideal für Fotografen, die zuverlässigen Objektivschutz ohne Einbußen bei der Bildqualität suchen.

Vorteile

Dieser Filter bietet außergewöhnlichen Schutz vor Staub, Feuchtigkeit, Kratzern und Stößen. Die 28-lagige beidseitige Beschichtung reduziert Reflexionen auf unter 0,3 % und sorgt für scharfe und kontrastreiche Bilder. Der extradünne 3,3 mm Rahmen verhindert Vignettierungen selbst bei Weitwinkelobjektiven, während die wasser- und ölabweisenden Eigenschaften die Reinigung mühelos machen.

Geeignet für

• Fotografen, die Objektive mit 58 mm Filtergewinde verwenden
• Outdoor- und Reisefotografie, bei der Objektivschutz unerlässlich ist
• Studio- und Landschaftsfotografie, die minimale Reflexionen erfordert

Wichtige Spezifikationen

• Filtertyp: UV-Schutzfilter
• Filterdurchmesser: 58 mm
• Beschichtungstechnologie: Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC)
• Anzahl der Beschichtungsschichten: 28 Schichten (beidseitig)
• Lichtdurchlässigkeit: >99,6 %
• Reflexionsgrad: <0,3 %
• Rahmenmaterial: Flugzeugaluminiumlegierung
• Glasmaterial: Japanisches AGC optisches Glas
• Rahmenstärke: 3,3 mm (extradünn)
• Wasserabweisend: Ja
• Ölabweisend: Ja
• Kratzfest: Ja
• Antistatisch: Ja
• Entspiegelt: Ja
• UV-Absorption: Ja
• Gewindeart: Doppelgewinde (vorne und hinten)
• Kompatibilität: Objektive mit 58 mm Filtergewinde
• Serie: Nano-X

Empfehlungen

Für optimale Leistung kombinieren Sie diesen Filter mit einer Objektivkappe und einem Reinigungstuch. Es wird empfohlen, den Filter als dauerhafte Schutzschicht auf Ihrem Objektiv zu verwenden. Stellen Sie sicher, dass der Filter sicher befestigt ist, um ein versehentliches Lösen zu vermeiden.