K&F Concept Nano-X MRC UV Filter für Fujifilm X100 Serie (Schwarzer Rahmen)

Der K&F Concept Nano-X MRC UV Filter ist eine hochwertige Objektivschutzlösung, die speziell für Fujifilm X100-Serienkameras entwickelt wurde, einschließlich X100, X100S, X100V, X100F und X100VI. Dieser maßgefertigte Filter ersetzt den originalen Frontring und sorgt für nahtlose Integration und unkompromittierte Bildqualität.

Vorteile

Dieser UV-Filter bietet eine mehrfach widerstandsfähige Beschichtung (MRC) für überlegenen Schutz gegen Kratzer, Wasser, Öl und Reflexionen. Mit einer Lichtdurchlässigkeit von über 99,6 % gewährleistet er minimale Auswirkungen auf die Bildschärfe, während er UV-Licht und Dunst effektiv reduziert. Der ultraschlanke Rahmen aus Flugzeugaluminiumlegierung bewahrt das kompakte Profil Ihrer Kamera.

Geeignet für

• Fujifilm X100
• Fujifilm X100S
• Fujifilm X100V
• Fujifilm X100F
• Fujifilm X100VI

Wichtige Spezifikationen

• Filtertyp: UV-Filter
• Beschichtung: Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC)
• Glasmaterial: Hochauflösendes optisches Glas
• Rahmenmaterial: Flugzeugaluminiumlegierung
• Rahmendesign: Ultraschlank
• Lichtdurchlässigkeit: >99,6 %
• Wasserbeständigkeit: Ja (hydrophob)
• Ölbeständigkeit: Ja (oleophob)
• Kratzfestigkeit: Ja
• Antireflex: Ja
• UV-Absorption: Ja
• Farbe: Schwarz (Rahmen)

Empfehlungen

Für optimalen Schutz und beste Bildqualität verwenden Sie diesen Filter als permanenten Objektivschutz. Die maßgefertigte Passform verhindert Vignettierung und ermöglicht eine einfache Installation.