K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 55mm

Der K&F Concept Nano-X MRC UV-Filter ist ein hochwertiges Objektivzubehör, das Ihr Objektiv schützt und gleichzeitig die Bildqualität verbessert. Mit der fortschrittlichen Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC) mit 28 Schichten erreicht er eine Lichtdurchlässigkeit von über 99,6 % und eine Reflexion von weniger als 0,3 %, was für extrem geringe Reflexion und überragende Klarheit sorgt. Der Filter besteht aus japanischem AGC-Optikglas und einem Rahmen aus Aviation-Aluminiumlegierung, was Langlebigkeit und ein schlankes Profil von 3,3 mm bietet. Er ist wasser-, öl-, kratz- und statisch abweisend und ideal für Außen- und Studiofotografie. Das doppelte Gewinde ermöglicht das Stapeln weiterer Filter oder Objektivdeckel.

Vorteile

Extrem geringe Reflexion reduziert Blendeffekte und Streulicht, verbessert Kontrast und Farbgenauigkeit. Die mehrfach beständige Beschichtung schützt vor Wasser, Öl, Kratzern und statischer Aufladung, was eine einfache Reinigung und langanhaltende Leistung gewährleistet. Der ultraschlanke Rahmen verhindert Vignettierungen bei Weitwinkelobjektiven.

Geeignet für

• Fotografen, die Objektivschutz ohne Beeinträchtigung der Bildqualität suchen
• Außen- und Landschaftsfotografie zur Reduzierung von atmosphärischem Dunst
• Studioarbeit, die hohe Lichtdurchlässigkeit und minimale Reflexion erfordert

Wichtige Spezifikationen

• Filtertyp: UV-Filter
• Filterdurchmesser: 55 mm
• Beschichtung: Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC), 28 Schichten beidseitig
• Lichtdurchlässigkeit: >99,6 %
• Reflexionsgrad: <0,3 %
• Glasmaterial: Japanisches AGC-Optikglas
• Rahmenmaterial: Aviation-Aluminiumlegierung
• Rahmendicke: 3,3 mm
• Gewindeart: Doppelgewinde (vorne und hinten)
• Wasser-, Öl-, Kratz- und statisch abweisend

Empfehlungen

Für optimale Leistung kombinieren Sie diesen UV-Filter mit einer Gegenlichtblende, um Streulicht zu minimieren. Reinigen Sie ihn mit einem Mikrofasertuch, um die Beschichtung zu erhalten. Ideal für Amateur- und Profifotografen.