K&F Concept Nano-X MRC UV Filter Ultra Low Reflection 52mm

Der K&F Concept Nano-X MRC UV-Filter ist ein hochwertiger Schutzfilter, der Ihr Objektiv schützt und die Bildqualität verbessert. Mit der fortschrittlichen Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC) mit 28 Schichten erreicht er eine extrem niedrige Reflexion (<0,3%) und eine hohe Lichtdurchlässigkeit (>99,6%). Gefertigt aus japanischem AGC-Optikglas und einem ultradünnen Rahmen aus Flugzeugaluminium ist dieser Filter wasserabweisend, ölabweisend, kratzfest und antistatisch. Das doppelte Gewinde ermöglicht das Stapeln weiterer Filter oder Objektivdeckel. Ideal für Fotografen, die eine neutrale Farbbalance und UV-Dunstminderung ohne Vignettierung bei Weitwinkelobjektiven suchen.

Vorteile

Extrem niedrige Reflexion minimiert Streulicht und Geisterbilder. Hohe Durchlässigkeit bewahrt Bildhelligkeit und Kontrast. Mehrfachbeschichtung schützt vor Wasser, Öl, Kratzern und statischer Aufladung. Ultradünner Rahmen verhindert Vignettierung auch bei Weitwinkelobjektiven. Doppeltes Gewinde für einfaches Stapeln.

Geeignet für

• Fotografen, die Objektive mit 52 mm Filtergewinde verwenden
• Schutz teurer Objektiv-Frontlinsen
• Reduzierung von UV-Dunst bei Outdoor- und Landschaftsfotografie
• Beibehaltung einer neutralen Farbbalance

Wichtige Spezifikationen

• Filtertyp: UV-Schutzfilter
• Filterdurchmesser: 52 mm
• Beschichtung: Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC), 28 Schichten
• Lichtdurchlässigkeit: >99,6%
• Reflexionsgrad: <0,3%
• Glasmaterial: Japanisches AGC-Optikglas
• Rahmenmaterial: Flugzeugaluminium
• Rahmentyp: Ultradünn
• Filterdicke: 3,3 mm (ohne Gewinde)
• Wasserabweisend: Ja
• Ölabweisend: Ja
• Kratzfest: Ja
• Antistatisch: Ja
• Gewindeart: Doppelgewinde (vorne und hinten)
• Vignettierung: Nein (bei Weitwinkelobjektiven)
• Farbverschiebung: Neutral

Empfehlungen

Für optimalen Schutz und Bildqualität kombinieren Sie diesen Filter mit einer Gegenlichtblende und reinigen Sie ihn mit einem Mikrofasertuch. Geeignet für professionelle und Amateurfotografen.