K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 55mm UV Filter

Der K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 55mm ist ein hochwertiger UV-Filter, der Ihr Objektiv schützt und die Bildschärfe verbessert. Mit fortschrittlicher 28-lagiger Multi-Resistant-Beschichtung und Nanobeschichtung bietet er eine überragende Lichtdurchlässigkeit von über 99,6 % und minimiert so die Auswirkungen auf die Bildqualität. Der Filter blockiert effektiv 99,9 % des UV-Lichts, reduziert Dunst und verbessert den Kontrast bei Außenaufnahmen.

Vorteile

Dieser Filter bietet wesentlichen Objektivschutz vor Staub, Feuchtigkeit, Kratzern und Stößen, ohne die optische Leistung zu beeinträchtigen. Der ultraschlanke Rahmen (3,3 mm) verhindert Vignettierung bei Weitwinkelobjektiven, und das Frontgewinde ermöglicht das Stapeln weiterer Filter oder Objektivdeckel. Die wasser-, öl- und kratzfesten Beschichtungen erleichtern die Reinigung und Pflege.

Geeignet für

• Fotografen, die Objektive mit 55 mm Filtergewinde verwenden
• Außen- und Landschaftsfotografie zur Reduzierung von Dunst und Verbesserung der Klarheit
• Schutz wertvoller Objektive vor Umwelteinflüssen

Wichtige Spezifikationen

• Filtertyp: UV-Filter
• Filterdurchmesser: 55 mm
• Serie: Nano-X Pro
• Beschichtungen: 28-lagige Multi-Resistant-Beschichtung (MRC) + Nanobeschichtung
• Lichtdurchlässigkeit: >99,6 %
• Optisches Material: Japanisches AGC-Optikglas
• Rahmenmaterial: Aviation-Aluminiumlegierung
• Rahmenstärke: 3,3 mm
• Wasserabweisend, ölabweisend, kratzfest, entspiegelt
• UV-Reduzierung: Blockiert 99,9 % des UV-Lichts
• Filterfaktor: 1 (Keine Belichtungskorrektur)
• Frontgewinde: Ja (ermöglicht Stapeln)

Empfehlungen

Für optimale Leistung kombinieren Sie diesen UV-Filter mit einer Gegenlichtblende, um Streulicht zu minimieren und vor Streulicht zu schützen. Reinigen Sie den Filter regelmäßig mit einem Mikrofasertuch, um seine hydrophoben und oleophoben Eigenschaften zu erhalten.