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K&F Concept Nano-X MRC UV Filter für Fujifilm X100/X100S/X100F/X100V/X100VI (KF01.2703)

K&F Concept Nano-X MRC UV Filter für Fujifilm X100/X100S/X100F/X100V/X100VI (KF01.2703)
K&F Concept Nano-X MRC UV Filter für Fujifilm X100/X100S/X100F/X100V/X100VI (KF01.2703)
33.65€
Der K&F Concept Nano-X MRC UV-Filter ist ein hochwertiger Objektivschutzfilter, der speziell für Fujifilm X100-Serienkameras (X100, X100S, X100F, X100V, X100VI) entwickelt wurde. Er ersetzt den vorderen Originalring des Objektivs und bietet eine maßgeschneiderte Passform, ohne die kompakte Bauform d... Read More
Lager 10 Code 3049877 Hersteller KF Modell 6942052537421 Garantie 2 Jahre

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Der K&F Concept Nano-X MRC UV-Filter ist ein hochwertiger Objektivschutzfilter, der speziell für Fujifilm X100-Serienkameras (X100, X100S, X100F, X100V, X100VI) entwickelt wurde. Er ersetzt den vorderen Originalring des Objektivs und bietet eine maßgeschneiderte Passform, ohne die kompakte Bauform der Kamera zu beeinträchtigen. Der Filter verfügt über die fortschrittliche Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC)-Technologie, die hervorragenden Schutz vor Staub, Kratzern, Feuchtigkeit und atmosphärischem Dunst bietet und gleichzeitig eine außergewöhnliche optische Klarheit bewahrt.

Vorteile

Dieser UV-Filter schützt nicht nur Ihr wertvolles Objektiv, sondern verbessert auch die Bildqualität, indem er Dunst reduziert und den Kontrast erhöht. Die 28-lagige Mehrfachbeschichtung sorgt für eine Lichtdurchlässigkeit von >99,6 % und minimiert Reflexionen und Streulicht. Der extradünne Rahmen aus Luftfahrt-Aluminiumlegierung fügt kein zusätzliches Volumen hinzu und bewahrt das schlanke Design der Kamera. Wasser- und ölabweisende Eigenschaften erleichtern die Reinigung, während die Kratzfestigkeit für eine langanhaltende Haltbarkeit sorgt.

Geeignet für

  • Fujifilm X100
  • Fujifilm X100S
  • Fujifilm X100F
  • Fujifilm X100V
  • Fujifilm X100VI

Wichtige Spezifikationen

  • Filtertyp: UV-Filter
  • Beschichtungstechnologie: Nano-X Multi-Resistant Coating (MRC)
  • Optisches Material: Hochauflösendes optisches Glas
  • Rahmenmaterial: Luftfahrt-Aluminiumlegierung
  • Befestigungsart: Direkt aufschraubbar (ersetzt den vorderen Originalring des Objektivs)
  • Lichtdurchlässigkeit: >99,6 %
  • Wasser- und ölabweisend: Ja
  • Kratzfest: Ja
  • Antireflex: Ja
  • UV-Absorption: Ja
  • Rahmenprofil: Extradünn
  • Anzahl der Beschichtungen: 28 Schichten
  • Farbe: Schwarz

Empfehlungen

Für optimalen Schutz und beste Bildqualität verwenden Sie stets einen hochwertigen UV-Filter wie den K&F Concept Nano-X MRC. Er ist ein unverzichtbares Zubehör für Fotografen, die ihr Fujifilm X100-Serienobjektiv sicher halten möchten, ohne Kompromisse bei der Leistung einzugehen.

Spezifikationen
EAN
6942052537421
Größe
Custom fit for Fujifilm X100 series
Hersteller
K&F Concept
Hersteller-Produktname
Nano-X MRC UV Filter for Fujifilm X100/X100S/X100F/X100V/X100VI
Kategorie
Kamerafilter
Marke
K&F Concept
Modell
Nano-X MRC UV Filter for Fujifilm X100 Series
MPN
KF01.2703
Produkttyp
UV-Filter
Preisverlauf der letzten 6 Monate
K&F Concept Nano-X MRC UV Filter für Fujifilm X100/X100S/X100F/X100V/X100VI (KF01.2703)
Aktuell
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